[发明专利]光学接近修正方法有效
| 申请号： | 03154947.0 | 申请日： | 2003-08-25 |
| 公开（公告）号： | CN1591200A | 公开（公告）日： | 2005-03-09 |
| 发明（设计）人： | 刘淑慧;吴文彬 | 申请（专利权）人： | 南亚科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;G03F1/08;G06F17/50 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 郭定辉;黄小临 |
| 地址： | 台湾省*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明提供一种对光掩膜布局图进行光学接近修正的方法，其中该光掩膜布局图至少包含一个光掩膜图案。该方法包含有下列步骤：收集预定加入该光掩膜布局图中之一辅助图案的辅助图案修正偏差值，接着结合该辅助图案修正偏差值，进行基准式光学接近修正，计算出该光掩膜图案需修正的目标修正偏差值，并依照计算结果对该光掩膜图案进行修正，输出修正的光掩膜布局图，最后在该修正的光掩膜布局图中加入该辅助图案。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 接近 修正 方法 | ||
【主权项】：
1.一种在光掩膜布局图进行光学接近修正的方法，该光掩膜布局图至少包含一个光掩膜图案，该方法包含有下列步骤：收集预定加入该光掩膜布局图中的第一辅助图案的辅助图案修正偏差值；结合该辅助图案修正偏差值，进行基准式光学接近修正，计算出该光掩膜图案需修正的目标修正偏差值，并依照计算结果对该光掩膜图案进行修正，输出修正的光掩膜布局图；以及在该修正的光掩膜布局图中加入该第一辅助图案。
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