[发明专利]光刻装置及器件制造方法有效
| 申请号： | 03155518.7 | 申请日： | 2003-07-09 |
| 公开（公告）号： | CN1487366A | 公开（公告）日： | 2004-04-07 |
| 发明（设计）人： | D·J·P·A·弗兰肯;E·R·罗普斯特拉;P·R·巴特雷;M·W·M·范德维斯特;M·J·M·伦肯斯;G·范肖托尔斯特;J·J·德里斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03B27/54;H01L21/027;H01L21/68 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 章社杲 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明提供了一种光刻装置，其中投射系统(PL)被适应性地安装在基准框架(5)上，基准框架依次被适应性地安装在支持该装置的基座(BP)上。因此基座(BP)中的任何振动和位移误差能够通过两组适应性安装件(6，7)被滤除，从而减少了投射系统(PL)的干扰。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻投射装置包括：一个辐射系统，用于提供投射的辐射光束；一个支撑结构，用于支持构图部件，其中该构图部件用于根据所需的图案对投射光束进行构图；一个用于固定基底的基底台；一个投射系统，用于将带有图案的光束投射到基底的靶部上；一个基座，其上安装所述支撑结构和所述基底台；一个基准框架，被适应性地安装到所述基座；其特征在于：该投射系统包括安装在投射框架上的至少一个光学元件，该投射框架被适应性地安装到基准框架。
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