[发明专利]制造液晶显示器的方法以及形成复晶硅层的方法有效
| 申请号： | 03155806.2 | 申请日： | 2003-08-22 |
| 公开（公告）号： | CN1487344A | 公开（公告）日： | 2004-04-07 |
| 发明（设计）人： | 石储荣;蔡耀铭 | 申请（专利权）人： | 统宝光电股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1345 | 分类号： | G02F1/1345;H01L21/00 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 王一斌 |
| 地址： | 台湾省新竹*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明提供一种用于液晶显示器中的复晶硅层的形成方法，包括以下步骤。首先，提供一绝缘基板，在绝缘基板上形成沉积一非晶硅层。接着，使非晶硅层结晶化，而形成一表面具有凸出部分的复晶硅层。接着，在复晶硅层上形成一改质层，以改质复晶硅层表面的凸出部分，改质层为氧化硅层或氮化硅层。最后，除去改质层，并同时除去复晶硅层表面的凸出部分，而得到表面较平坦的复晶硅层。 | ||
| 搜索关键词： | 制造 液晶显示器 方法 以及 形成 复晶硅层 | ||
【主权项】：
1.一种制造液晶显示器的方法，其包括下列步骤：提供一基板；在该基板上形成一绝缘层；在该绝缘层上沉积一非晶硅层；使该非晶硅层结晶化，而形成一表面具有凸出部分的复晶硅层；在该复晶硅层上形成一改质层，以改质复晶硅层表面的凸出部分，该改质层为氧化硅层或氮化硅层；以及除去该改质层，并同时除去复晶硅层表面的凸出部分，而得到表面较平坦的复晶硅层。
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