[发明专利]抛光布用打磨器和使用该打磨器的抛光布的打磨方法无效
| 申请号： | 03156576.X | 申请日： | 2003-09-09 |
| 公开（公告）号： | CN1494984A | 公开（公告）日： | 2004-05-12 |
| 发明（设计）人： | 锅谷忠克 | 申请（专利权）人： | 株式会社利德 |
| 主分类号： | B24B53/12 | 分类号： | B24B53/12;B24B53/00 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 | 代理人： | 韩登营 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种抛光布用打磨器和使用该打磨器的抛光布的打磨方法，使可调整抛光布用打磨器中的打磨面的状态，即使在磨粒的前端形状等打磨面的状态中产生个体差异，也可以造成均一的抛光布表面，而且能够对抛光布表面赋予适应被加工物的适当的抛光性能，上述打磨器构成为，在金属基体(2)的周缘部上备有打磨面(4)的抛光布用打磨器(1)中，在该打磨面(4)上分别交互地并列设置由彼此不同的粒度的磨粒组成的第1、第2磨粒群(5)、(6)，在上述金属基体(2)上，设置能够任意调节这些各磨粒群(5、6)中包含的粒度最大的磨粒的前端的基准面(S1)、(S2)间的高低差(δ)的调节机构(7)。 | ||
| 搜索关键词： | 抛光 打磨 使用 方法 | ||
【主权项】：
1.一种抛光布用打磨器，是在能够旋转的金属基体的表面上形成打磨面而成的抛光布用打磨器，其特征在于，在上述打磨面上，在其圆周方向上并列设置多个磨粒群，在上述金属基体上，对全部或一部分磨粒群，设置能够调节由多个磨粒的前端分别形成的基准面的上述打磨面上的高低差的调节机构。
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