[发明专利]自行对准接触窗开口的制造方法与内连线结构及其制造方法有效

专利信息
申请号: 03156644.8 申请日: 2003-09-05
公开(公告)号: CN1591785A 公开(公告)日: 2005-03-09
发明(设计)人: 管式凡;吴国坚 申请(专利权)人: 南亚科技股份有限公司
主分类号: H01L21/28 分类号: H01L21/28;H01L21/30;H01L21/768;H01L21/3205;H01L23/525;H01L23/532
代理公司: 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 代理人: 寿宁;张华辉
地址: 中国*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明是关于一种自行对准接触窗开口的制造方法与内连线结构及其制造方法,该自行对准接触窗开口的制造方法,是先提供已形成有闸介电层、闸极导电层与顶盖层的基底。之后,在顶盖层上形成保护层,其中保护层的移除速率小于顶盖层的移除速率。接着,图案化保护层、顶盖层与闸极导电层,以形成数个闸极结构。然后,在闸极结构的侧壁形成间隙壁。继之,在基底上方形成介电层,以覆盖闸极结构与保护层。随后,图案化介电层,以形成自行对准接触窗开口。本发明由于闸极结构顶部覆盖有低移除速率的保护层,所以可以避免在图案化介电层的过程中闸极导电层被裸露出来。
搜索关键词: 自行 对准 接触 开口 制造 方法 连线 结构 及其
【主权项】:
1、一种自行对准接触窗开口的制造方法,其特征在于其包括以下步骤:提供一基底,该基底上已形成有一闸介电层、一闸极导电层与一顶盖层;在该顶盖层上形成一保护层,其中该保护层的移除速率小于该顶盖层的移除速率;图案化该保护层、该顶盖层与该闸极导电层,以形成覆盖有该保护层的复数个闸极结构;在该些闸极结构的侧壁形成一间隙壁;在该基底上方形成一介电层,以覆盖该些闸极结构与该保护层;以及图案化该介电层,以在相邻的其中二该些闸极结构之间形成一自行对准接触窗开口,暴露出该基底表面。
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