[发明专利]光学增透膜及其镀膜方法无效
| 申请号： | 03156715.0 | 申请日： | 2003-09-08 |
| 公开（公告）号： | CN1532563A | 公开（公告）日： | 2004-09-29 |
| 发明（设计）人： | 生水出淳史;床本勋;堀崇展;古塚毅士 | 申请（专利权）人： | 新明和工业株式会社 |
| 主分类号： | G02B1/10 | 分类号： | G02B1/10;G02B1/11 |
| 代理公司： | 上海新天专利代理有限公司 | 代理人： | 衷诚宣 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光学增透膜(反射防止膜)及其镀膜方法。一层具有与丙烯酸树脂基片的折射率基本相等的折射率的第一一氧化硅膜制备在该基片上至大约200钠米厚度，在该第一一氧化硅膜上制备一层折射率值在1.48至1.62之间范围内的第二一氧化硅膜至大约200钠米厚度。还有，例如在高低型增透膜的情况中，使用一特殊的离子镀装置制备一层折射率值在2.2至2.4之间范围的二氧化钛膜，以作为从最外层起算的第二层。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 增透膜 及其 镀膜 方法 | ||
【主权项】：
1、一种制备在由合成树脂做成的基片上的光学增透膜，其包含有：一层制备在该基片表面上的第一膜，该第一膜具有预先设定的厚度和与该基片折射率基本相等的折射率；一层制备在该第一膜表面的第二膜，该第二膜具有预先设定的厚度和在1.48至1.62之间范围内的折射率值，且由与制备该第一膜相同或不同的材料组成；和一制备在该第二膜表面的多层膜，该多层膜具有增透特性。
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