[发明专利]表面发射半导体激光器及其制造方法有效
申请号: | 03156934.X | 申请日: | 2003-09-15 |
公开(公告)号: | CN1508916A | 公开(公告)日: | 2004-06-30 |
发明(设计)人: | 大森诚也 | 申请(专利权)人: | 富士施乐株式会社 |
主分类号: | H01S5/18 | 分类号: | H01S5/18;H01S5/183 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人: | 李辉 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 一种表面发射半导体激光器包括:衬底、衬底上的半导体层叠层、在叠层上形成并具有激光发射窗的台体,和至少覆盖台体的侧面和外围部分的绝缘膜,该台体的外围部分由叠层形成。绝缘膜的末端被设置得比衬底的截断端更靠内。 | ||
搜索关键词: | 表面 发射 半导体激光器 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种表面发射半导体激光器,该激光器包括:衬底;衬底上的半导体层叠层;在该叠层上形成的并且具有激光发射窗的台体;以及至少覆盖台体的侧面和外围部分的绝缘膜,该台体的外围部分由叠层形成,该绝缘膜的末端比衬底的截断端更靠内。
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