[发明专利]布线基板的制备方法有效

专利信息
申请号: 03156948.X 申请日: 2003-09-15
公开(公告)号: CN1491076A 公开(公告)日: 2004-04-21
发明(设计)人: 今藤桂;小平正司;千野武志;中村顺一;阿部美和 申请(专利权)人: 新光电气工业株式会社
主分类号: H05K3/00 分类号: H05K3/00;H05K3/46;H01L23/12
代理公司: 北京市中咨律师事务所 代理人: 杨晓光;李峥
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 具有从基板表面伸出的突点的布线基板的制备方法,包括以下步骤:用电绝缘膜覆盖金属基底的一面并在绝缘膜中形成开孔以在其底部露出基底,用具有开孔的绝缘膜作掩模蚀刻基底,形成凹处,用基底作为镀覆电源层电镀每个凹处的内表面,在其上形成阻挡金属膜,使用基底作为镀覆电源层,通过电镀以材料填充用于突点的凹处,使用基底作为镀覆电源层,在各凹处填充的材料表面上形成阻挡层,在绝缘膜上形成预定数量的布线图形叠层;叠层中的相邻布线图形通过插入的绝缘层相互隔开,并通过其中形成的通路孔相互连接,布线图形电连接到凹处中填充的材料,从具有突点的布线图形的叠层上除去基底,每个突点具有阻挡金属膜,从每个突点上除去阻挡金属膜。
搜索关键词: 布线 制备 方法
【主权项】:
1.一种布线基板的制备方法,所述布线基板具有从基板表面伸出的突点,该方法包括以下步骤:用电绝缘膜覆盖金属基底的一面并在绝缘膜中形成开孔以在它的底部露出基底,使用具有开孔的绝缘膜作为掩模蚀刻基底,在基底中形成凹处,使用基底作为镀覆电源层电镀每个凹处的内表面,在每个凹处的内表面上形成阻挡金属膜,使用基底作为镀覆电源层通过电镀用一种材料填充用于突点的凹处,使用基底作为镀覆电源层,在填充到每个凹处中的用于突点的材料表面上形成阻挡层,在绝缘膜上形成预定数量的布线图形的叠层;叠层中的相邻布线图形通过插入的绝缘层相互隔开,并通过插入的绝缘层中形成的通路孔相互连接,并且布线图形电连接到凹处中填充的用于突点的材料,从具有突点的布线图形的叠层上除去基底,每个突点具有阻挡金属膜,且从每个突点上除去阻挡金属膜。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于新光电气工业株式会社,未经新光电气工业株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/03156948.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top