[发明专利]用于形成压电体膜的组合物、压电体膜的制造方法、压电体元件和喷墨式记录头有效
申请号: | 03157405.X | 申请日: | 2003-09-19 |
公开(公告)号: | CN1495927A | 公开(公告)日: | 2004-05-12 |
发明(设计)人: | 襟立信二;小林本和;久保田纯;内田文生;清水千惠美;前田宪二 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社;富士化学株式会社 |
主分类号: | H01L41/193 | 分类号: | H01L41/193;H01L41/22;B41J2/045 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 | 代理人: | 杨宏军 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 含有由金属化合物得到的分散质的用于形成压电体膜的组合物,其中含有选自1,8-二氮杂双环[5.4.0]-7-十一碳烯、1,5-二氮杂双环[4.3.0]壬-5-烯、1,4-二氮杂双环[2.2.2]辛烷中的至少1种。 | ||
搜索关键词: | 用于 形成 压电 组合 制造 方法 元件 喷墨式 记录 | ||
【主权项】:
1、用于形成压电体膜的组合物,含有由金属化合物得到的分散质,其特征在于,其中含有1,8-二氮杂双环[5.4.0]-7-十一碳烯、1,5-二氮杂双环[4.3.0]壬-5-烯、1,4-二氮杂双环[2.2.2]辛烷中的至少1种。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于佳能株式会社;富士化学株式会社,未经佳能株式会社;富士化学株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/03157405.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:半导体发光器件
- 下一篇:压电体膜的制造方法、压电体元件和喷墨式记录头