[发明专利]自动光学近似校正规则的产生有效
| 申请号： | 03158096.3 | 申请日： | 2003-07-26 |
| 公开（公告）号： | CN1495539A | 公开（公告）日： | 2004-05-12 |
| 发明（设计）人： | X·施;J·F·陈 | 申请（专利权）人： | ASML蒙片工具有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;G03F7/20;G03B27/42;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 王勇 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 自动地将光学近似校正技术应用到包括多个特征的标线设计中的方法。所述方法包括步骤：(1)产生第一组规则，其用于将散射带辅助特征应用到用于一个给定照明设置的所述多个特征中；(2)产生第二组规则，其用于将偏置应用到所述多个特征中，该特征用于所述给定的照明设置；(3)形成一个查找表，该表包括所述第一组规则和所述第二组规则；以及(4)利用包含在所述查找表中的所述第一组规则和所述第二组规则来分析各个特征，以确定所述第一组规则或者所述第二组规则对一个给定的特征是否适合。如果所述第一组规则或所述第二组规则适合于该给定的特征，那么根据该适用规则来修改所述给定的特征。 | ||
| 搜索关键词： | 自动 光学 近似 校正 规则 产生 | ||
【主权项】：
1.一种产生一组规则的方法，该规则被用于自动地将光学近似校正技术应用到标线设计，该设计包括多个特征，所述方法包括步骤；产生第一组规则，其用于将散射带辅助特征应用到用于一个给定照明设置的所述多个特征中；产生第二组规则，其用于将偏置应用到所述多个特征中，该特征用于所述给定的照明设置；以及形成一个查找表，该表包括所述第一组规则和所述第二组规则。
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