[发明专利]光束均化器和激光辐照装置以及半导体器件制造方法有效
| 申请号： | 03158655.4 | 申请日： | 2003-09-19 |
| 公开（公告）号： | CN1492255A | 公开（公告）日： | 2004-04-28 |
| 发明（设计）人： | 田中幸一郎 | 申请（专利权）人： | 株式会社半导体能源研究所 |
| 主分类号： | G02B27/09 | 分类号： | G02B27/09;G02B6/00;G02B3/06;H01L21/324;H01S3/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 吴立明;王勇 |
| 地址： | 日本神奈*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 辐照表面上束斑处的不均匀能量分布是由形成光学系统的柱面透镜阵列的结构问题以及加工精度引起的。根据本发明，在形成矩形束斑的光学系统中，用光导来代替用来均化辐照表面上矩形激光束斑短边方向的能量分布的光学系统。此光导是一种能够将发射的光束限制在一定区域内并平行于其光路轴引导和传输其能量流的通路。 | ||
| 搜索关键词： | 光束 均化器 激光 辐照 装置 以及 半导体器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用来使辐照表面上的激光束斑成形为线状形状的光束均化器，它包含用来沿辐照表面上线状形状宽度方向均化激光能量分布的光导。
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