[发明专利]发光装置及其制作方法有效
| 申请号： | 03158661.9 | 申请日： | 2003-09-19 |
| 公开（公告）号： | CN1492722A | 公开（公告）日： | 2004-04-28 |
| 发明（设计）人： | 高山彻;鹤目卓也;后藤裕吾 | 申请（专利权）人： | 株式会社半导体能源研究所 |
| 主分类号： | H05B33/12 | 分类号： | H05B33/12;H05B33/04 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 马铁良;梁永 |
| 地址： | 日本神奈*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明通过采用能够形成叠层的含有氟树脂的膜作为保护元件不受湿气和氧气的影响的保护膜，跟常规的技术相比更容易防止发光元件的退化，因而可以达到提高发光元件可靠性的目的。本发明对含有氟树脂的膜的表面进行表面处理，使表面形状有凸凹结构，并通过控制含有氟树脂的膜中的氟树脂的含有量，使在含有氟树脂的膜上形成其他膜的叠层结构成为可能。在通过控制含有氟树脂的膜中的氟树脂的含有量，在含有氟树脂的膜上形成其他膜的叠层的情形中，通过溅射法按顺序用多个靶形成含有氟树脂的膜，其中多个靶用氟树脂和金属氧化物制成并具有不同含有率，由此控制膜中的氟树脂的含有量。 | ||
| 搜索关键词： | 发光 装置 及其 制作方法 | ||
【主权项】：
1.一种具有发光元件的发光装置，包括：第一电极；第二电极；夹在所述第一电极和所述第二电极中间的场致发光膜；在所述第二电极上形成的含有氟树脂的膜；以及在所述含有氟树脂的膜上形成的无机绝缘膜。
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