[发明专利]衬底和采用该衬底的有机电致发光器件有效
| 申请号： | 03158675.9 | 申请日： | 2003-08-01 |
| 公开（公告）号： | CN1496198A | 公开（公告）日： | 2004-05-12 |
| 发明（设计）人： | M·里德克;M·谢迪格;M·库比克 | 申请（专利权）人： | 三星SDI株式会社 |
| 主分类号： | H05B33/10 | 分类号： | H05B33/10;H05B33/12 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 吴立明;梁永 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 提供了一种衬底和一种采用了该衬底的有机电致发光器件。该衬底具有至少一个形成在支持衬底的至少一个表面上的非连续光致抗蚀剂涂层，并且该非连续光致抗蚀剂涂层具有多个连续部分。该连续部分可以具有高表面能区和低表面能区。为了形成低表面能区，一第二光致抗蚀剂涂层用于至少临时覆盖对应于该高表面能区的连续部分。 | ||
| 搜索关键词： | 衬底 采用 有机 电致发光 器件 | ||
【主权项】：
1.一种用于制造衬底的方法，包括：在一支持衬底上淀积一第一光致抗蚀剂涂覆材料；利用一掩模对该第一光致抗蚀剂涂覆材料进行曝光；显影该第一光致抗蚀剂涂覆材料以提供一第一光致抗蚀剂涂层；用第一处理方法对该第一光致抗蚀剂涂层进行处理以便调整该第一光致抗蚀剂涂层的表面能；在该第一光致抗蚀剂涂层的至少一部分上淀积第二光致抗蚀剂涂覆材料；曝光该第二光致抗蚀剂涂覆材料；显影该第二光致抗蚀剂涂覆材料以提供一第二光致抗蚀剂涂层，其中该第二光致抗蚀剂涂层的至少一部分与该第一光致抗蚀剂涂层的至少一部分重叠；用第二处理方法对该第一光致抗蚀剂涂层的至少一部分进行处理；和除去该第二光致抗蚀剂涂层。
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