[发明专利]光干涉式显示单元结构及制造方法无效
| 申请号： | 03158927.8 | 申请日： | 2003-09-09 |
| 公开（公告）号： | CN1595230A | 公开（公告）日： | 2005-03-16 |
| 发明（设计）人： | 林文坚 | 申请（专利权）人： | 元太科技工业股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/01 | 分类号： | G02F1/01;G02F1/03;G02F1/07;G02F1/31;G02B26/00 |
| 代理公司： | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人： | 郑特强 |
| 地址： | 中国*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种光干涉式显示单元结构及制造方法，该光干涉式显示结构具有一第一电极、一第二电极，其中第二电极包括一第一材料层及一第二材料层。一支撑结构位于第一电极与第二电极之间以形成一腔室，其中，该第一材料层与该第二材料层至少其中之一由一导电材料所形成，且第二材料层作为蚀刻第一材料层的罩幕层。上述光干涉式显示结构的制造方法形成第一材料层及一第二材料层作为第二电极之用。利用微影蚀刻制程将一光阻图案转移到第二材料层之上，移除光阻层后，再以图案化的第二材料层为罩幕蚀刻第一材料层而定义出第二电极，如此可避免支撑结构在移除光阻层时受到伤害。 | ||
| 搜索关键词： | 干涉 显示 单元 结构 制造 方法 | ||
【主权项】：
1、一种光干涉式显示单元结构，其特征在于，至少包含：一第一电极；一第二电极，该第二电极至少包括：一第一材料层；以及一第二材料层；以及一支撑结构位于该第一电极与该第二电极之间以形成一腔室；其中，该第一材料层与该第二材料层至少其中之一由一导电材料所形成，且该第二材料层作为蚀刻该第一材料层的罩幕层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于元太科技工业股份有限公司，未经元太科技工业股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/03158927.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
