[发明专利]微透镜阵列基板的制造方法及制造装置无效

专利信息
申请号: 03159308.9 申请日: 2003-09-02
公开(公告)号: CN1501140A 公开(公告)日: 2004-06-02
发明(设计)人: 藤田升 申请(专利权)人: 夏普株式会社
主分类号: G02F1/1335 分类号: G02F1/1335;G03B21/00
代理公司: 上海专利商标事务所 代理人: 包于俊
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明揭示一种微透镜阵列基板的制造方法,是在相互相向对置的第一透明基板与第二透明基板之间配置在一个表面形成第一微透镜阵列型、同时在另一个表面形成第二微透镜阵列型的压模,在第一及第二透明基板与上述压模之间分别形成各自由第一透光性树脂及第二透光性树脂构成的微透镜阵列之后,使压模移开,上述两个微透镜阵列之间用第三透光性树脂固定,通过这样制成微透镜阵列基板。这样,由于对第一与第二透明基板上分别形成的微透镜阵列相互之间不需要进行光轴调整,因此能够简化制造工序,同时能够高效地大量生产高精度的微透镜阵列基板。
搜索关键词: 透镜 阵列 制造 方法 装置
【主权项】:
1.一种微透镜阵列基板的制造方法,是在相互相向对置的第一透明基板(2)与第二透明基板(3)之间配置形成微透镜阵列型的压模(1),在第一透明基板(2)与所述压模(1)之间形成由第一透光性树脂(4)构成的微透镜阵列(2a),同时在第二透明基板(3)与所述压模(1)之间形成由第二透光性树脂(4)构成的微透镜阵列(3a)之后,使所述压模(1)移开,微透镜阵列(2a、3a)相互之间用第三透光性树脂(5)固定,通过这样制成微透镜阵列基板,其特征在于,在使所述压模移开时,将所述第一透明基板与第二透明基板维持在相互相向对置的状态,同时将第二透明基板(3)的移动限制在仅与第一透明基板(2)的基板表面垂直的方向,同时将第一透明基板(2)的移动限制在仅与第二透明基板(3)的基板表面垂直的方向,所述压模(1)在一个表面形成第一微透镜阵列型,同时在另一个表面形成第二微透镜阵列型。
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