[发明专利]制造微透镜矩阵和投影类液晶显示设备的方法无效
| 申请号： | 03160358.0 | 申请日： | 2003-09-25 |
| 公开（公告）号： | CN1497268A | 公开（公告）日： | 2004-05-19 |
| 发明（设计）人： | 北村和也;仓田幸夫;关本芳宏;冈田训明;藤田升;长坂由起子;中西浩 | 申请（专利权）人： | 夏普株式会社 |
| 主分类号： | G02B3/00 | 分类号： | G02B3/00;G02F1/1335;G03B21/00;H04N9/31 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所 | 代理人： | 吴明华 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的一个目的是提供制造能够提高光线的使用效率的微透镜矩阵和液晶显示设备，以及方便制造微透镜矩阵的方法和降低设备成本。通过只是用具有对应于第二微透镜矩阵形状的强度分布的平行光线照射第一透镜(12)以及采用透射光线来照射紫外线固化树脂层(33)，就可以高对准精度的相互位置关系来设置第一和第二透镜(12，14)。通过用平行光线照射第一透镜(12)，就可能均匀地曝光一较大的区域，并且有可能曝光晶片。 | ||
| 搜索关键词： | 制造 透镜 矩阵 投影 液晶显示 设备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种制造微透镜矩阵的方法，该方法包括：产生第一微透镜矩阵(12，36)的第一步骤；形成光敏材料所制成的层(33，37)的第二步骤；第三步骤，其中通过利用具有对应于第二微透镜矩阵(14，41)的形状的强度分布的平行光线照射第一微透镜矩阵(12，36)和用由第一微透镜矩阵所透射的透射光线照射由光敏材料制成的层(33，37)来制成第二微透镜矩阵(14，41)。
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