[发明专利]半导体光电器件无效
申请号: | 03164912.2 | 申请日: | 2003-09-26 |
公开(公告)号: | CN1497807A | 公开(公告)日: | 2004-05-19 |
发明(设计)人: | 原君男;川崎和重 | 申请(专利权)人: | 三菱电机株式会社 |
主分类号: | H01S5/028 | 分类号: | H01S5/028;H01S5/00 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 程天正;叶恺东 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种宽广波长频带范围内,备有低反射率反射膜的半导体光电器件。半导体光电器件,具备包括由有源层和夹着上述有源层的2张包层构成的波导层的叠层构造体,以及在所述叠层构造体的一对相对端面部的至少其一端面部上形成的多层反射膜;上述多层反射膜各自膜的折射率ni与膜厚di乘积nidi的总和∑nidi,关于波导上述波导层的光的波长λ满足∑nidi>λ/4的关系,同时上述多层反射膜的反射率是以上述波长λ情况的反射率R(λ)为基准,包括连续从-1%到+2.0%范围内上述波长λ的波长带宽Δλ除以上述波长λ的值Δλ/λ为0.062以上。 | ||
搜索关键词: | 半导体 光电 器件 | ||
【主权项】:
1.一种半导体光电器件,其特征是:具备包括由有源层和夹着所述有源层的2张包层构成的波导层的叠层构造体,和在所述叠层构造体的一对相对端面部至少其一端面部上形成的多层反射膜;所述多层反射膜各自膜的折射率ni与膜厚di乘积nidi的总和∑nidi,对于波导所述波导层的光的波长λ,满足∑nidi>λ/4的关系;同时所述多层反射膜以所述波长λ时的反射率R(λ)为基准,包括成为+2.0%以下所述波长λ的连续波长带宽Δλ,对于所述叠层构造体的有效折射率nc与所述波长λ时的反射率R’(λ),把仅以厚度5λ/(4nf)在所述端面部形成折射率nf 满足下述关系式R’(λ)=((nc-nf2)/(nc+nf2))2 的虚拟单层反射膜情况的反射率R’作为基准,比包括成为+2.0%以下所述波长λ的连续波长带宽Δ’λ还宽。
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