[发明专利]光记录介质无效
| 申请号： | 03165019.8 | 申请日： | 2003-09-13 |
| 公开（公告）号： | CN1523593A | 公开（公告）日： | 2004-08-25 |
| 发明（设计）人： | 出口浩司;让原肇;日比野荣子;三浦裕司;安部美树子;鸣海慎也;木边刚;山田胜幸;谷口贤史 | 申请（专利权）人： | 株式会社理光 |
| 主分类号： | G11B7/24 | 分类号： | G11B7/24;G11B7/004 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 李晓舒;魏晓刚 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光记录介质，当使用数值孔径(NA)为0.65的拾取头，照射功率为11±1mW和波长为660±10nm的连续光时，它的过渡线速度为8m/s至11m/s，且满足下述条件：ΔR＝|Rb－Ra|≤3％，其中Rb是未记录区域的反射率，Ra是10个记录循环之后眼孔图样顶部的反射率。在其一种记录模式中，光盘以恒定的角速度旋转，以致于在最内部轨道上具有3至4m/s的线速度，在最外部轨道上具有8至9m/s的线速度。在另一模式中，光盘以恒定的角速度旋转，以致于在最内部轨道上具有5至6m/s的线速度，在最外部轨道上具有13至14m/s的线速度。 | ||
| 搜索关键词： | 记录 介质 | ||
【主权项】：
1.一种光记录介质，包括：透明基片；位于透明基片上方的下保护层；含相变材料的记录层，它位于下保护层上方；位于记录层上方的上保护层；以及位于记录层与下保护层之间和记录层与上保护层之间这两种位置中的至少一种位置处的界面层，其中该光记录介质的过渡线速度范围为8m/s至11m/s，这是通过用数值孔径为0.65的拾取头，照射功率为11±1mW且波长为660±10nm的连续光而测量的，且满足下述条件：ΔR＝|Rb-Ra|≤3％其中ΔR是Ra与Rb之差的绝对值；Rb是未记录区域的反射率，且Ra是10个记录循环之后眼孔图样顶部的反射率，以及其中对于至少第一记录模式和第二记录模式这两种记录模式，该光记录介质是可记录的，其中第一记录模式是，光记录介质以恒定的角速度旋转，以致于当在光记录介质的最内部轨道上记录时具有3m/s至4m/s的线速度，且当在光记录介质的最外部轨道上记录时具有8m/s至9m/s的线速度，第二记录模式是，光记录介质以恒定的角速度旋转，以致于当在光记录介质的最内部轨道上记录时具有5m/s至6m/s的线速度，且当在光记录介质的最外部轨道上记录时具有13m/s至14m/s的线速度。
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