[实用新型]闭合式电子漂移型气体离子源无效
| 申请号： | 03208419.6 | 申请日： | 2003-08-26 |
| 公开（公告）号： | CN2646155Y | 公开（公告）日： | 2004-10-06 |
| 发明（设计）人： | 刘涌;宋雷 | 申请（专利权）人： | 刘涌;宋雷 |
| 主分类号： | C23C16/513 | 分类号： | C23C16/513 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100091北京市海*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 闭合式电子漂移型气体离子源属于真空镀膜设备，本实用新型提供了一种闭合式电子漂移型气体离子源，由阳极(10)、内阴极(11)、外阴极(12)、供气系统、磁路等部件构成。其特征在于：离子源通过法兰盘(19)安装在未详细说明的真空室壁上；内阴极(11)、外阴极(12)、阳极(10)构成一个环形的放电室(13)；阳极(10)内部有水冷室(22)，并通过绝缘套(23)安装在磁靴(15)上；工作气体通过供气管(16)进入磁铁外套(21)的内部，再通过均匀分布的气孔(20)进入放电室(13)。本实用新型可应用于：镀膜前清洗工件、辅助沉积、等离子体增强化学气相沉积。 | ||
| 搜索关键词： | 闭合 电子 漂移 气体 离子源 | ||
【主权项】：
1.一种闭合式电子漂移型气体离子源，由内阴极(11)、外阴极(12)、阳极(10)、供气系统、磁路等部件组成，其特征在于：离子源通过法兰盘(19)安装在未详细说明的真空室壁上；由内阴极(11)、外阴极(12)、阳极(10)构成一个环形的放电室(13)；阳极(10)内部有水冷室(22)，并通过绝缘套(23)安装在磁靴(15)上；工作气体通过供气管(16)进入磁铁外套(21)的内部，再经过均匀分布的气孔(20)进入放电室(13)。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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