[实用新型]自动镀膜多弧离子镀膜机无效
| 申请号： | 03229462.X | 申请日： | 2003-03-13 |
| 公开（公告）号： | CN2619948Y | 公开（公告）日： | 2004-06-09 |
| 发明（设计）人： | 吴砚东 | 申请（专利权）人： | 玉环县金源比特科技发展有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/22 | 分类号： | C23C14/22;C23C14/30 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 317605*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种能在各种金属表面上镀制多种金属膜层的专用设备。它由带有前门的筒体，盖合在筒体上的上盖，装在筒体底部的底座和置于筒体真空室内的旋转工件架及与真空室连接的真空抽气系统所组成，其中筒体周壁上分布着多个电弧蒸发源，这些电弧蒸发源直接与PLC程序控制线路连接，并与微机型真空控制仪相连接，实现全自动逻辑程序控制。它与现有的技术相比，具有稳弧性好，温控精确度高，镀层结合力强，并能有效消除液滴，提高沉积速率。 | ||
| 搜索关键词： | 自动 镀膜 离子 | ||
【主权项】：
1、一种自动镀膜多弧离子镀膜机，由带有前门(2)的筒体(3)，盖合在筒体(3)上的上盖(5)，装在筒体(3)底部的底座(1)和置于筒体(3)真空室内的旋转工件架及与真空室连接的真空抽气系统所组成，其特征在于：筒体(3)周壁上分布着多个的电弧蒸发源(4)，该电弧蒸发源(4)与PLC程序控制线路连接。
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