[实用新型]一种真空灭弧室用的触头座线圈无效
| 申请号： | 03234523.2 | 申请日： | 2003-05-20 |
| 公开（公告）号： | CN2619352Y | 公开（公告）日： | 2004-06-02 |
| 发明（设计）人： | 王德志 | 申请（专利权）人： | 中国振华（集团）科技股份有限公司宇光分公司 |
| 主分类号： | H01H33/664 | 分类号： | H01H33/664;H01H9/44 |
| 代理公司： | 贵阳中新专利商标事务所 | 代理人： | 李大刚 |
| 地址： | 550018*** | 国省代码： | 贵州;52 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种真空灭弧室用的触头座线圈，它的构成包括导电圆环1，圆环1上开有二个或二个以上的凹槽3，在凹槽3下开有沿圆环1圆周旋转的斜槽2；特点是：沿圆环1圆周旋转的斜槽2是沿圆环1圆周旋转180°的斜槽2。本实用新型通过增加电流路径，从而增强开断时触头间的磁场，起到了提高真空灭弧室灭弧能力的作用。在实现相同的开断能力下，利用本实用新型，可以较大幅度地减小触头座体积和触头表面积。本实用新型结构简单，实用效果好，可减小触头座体积和触头表面积以及真空灭弧室的体积，对真空灭弧室的小型化有积极作用。可用于真空灭弧室的生产中。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 真空 灭弧室用 头座 线圈 | ||
【主权项】：
1、一种真空灭弧室用的触头座线圈，它的构成包括导电圆环(1)，圆环(1)上开有二个或二个以上的凹槽(3)，在凹槽(3)下开有沿圆环(1)圆周旋转的斜槽(2)；其特征在于：沿圆环(1)圆周旋转的斜槽(2)是沿圆环(1)圆周旋转180°的斜槽(2)。
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