[实用新型]一种用于加工基材的抛光制品无效
| 申请号： | 03257527.0 | 申请日： | 2003-05-07 |
| 公开（公告）号： | CN2751972Y | 公开（公告）日： | 2006-01-18 |
| 发明（设计）人： | Y·胡;Y·王;A·迪布斯特;F·Q·刘;R·马夫列夫;L-Y·陈;R·莫拉德;S·索梅克 | 申请（专利权）人： | 应用材料有限公司 |
| 主分类号： | B24D3/00 | 分类号： | B24D3/00;B24D3/34;H01L21/302 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人： | 赵蓉民;彭益群 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本实用新型涉及用于平面化基材表面的制造制品和设备。具体地，本实用新型提供了一种用于加工基材的抛光制品，其包括一个具有适于抛光基材的表面的主体；以及一个位于所述主体内的导电元件，所述导电元件包括由导电材料涂敷的交织纤维的织物。该抛光制品提供了有效的物理和电气接触，适于各工业领域，特别是半导体制造过程中衬底表面的抛光处理。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 加工 基材 抛光 制品 | ||
【主权项】：
1.一种用于加工基材的抛光制品，其特征在于所述抛光制品包括：一个具有适于抛光基材的表面的主体；以及一个位于所述主体内的导电元件，所述导电元件包括由导电材料涂敷的交织纤维的织物。
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