[实用新型]水面立体转印机构无效
申请号: | 03257530.0 | 申请日: | 2003-05-12 |
公开(公告)号: | CN2695224Y | 公开(公告)日: | 2005-04-27 |
发明(设计)人: | 林炎煌 | 申请(专利权)人: | 林炎煌 |
主分类号: | B41F16/00 | 分类号: | B41F16/00 |
代理公司: | 北京维澳专利代理有限公司 | 代理人: | 吴兰柱 |
地址: | 台湾省台中县丰原市南*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种水面立体转印机构,包括:一机台、一胶膜输送机构、一胶膜整平滚轮、一活化剂供给机构、一活化剂匀布机构、一风扇机构、一转印水槽、一转印机构、一过滤槽及一供水泵;其中,活化剂供给机构,包括数个间隔设置的定时定量供给泵,该供给泵受一控制器控制作动,使其可于适当时间滴下活化剂,其后方的活化剂匀布机构,则于一受汽压缸作动的座体下端设一圆棒型规尺,该规尺表面形成有间隔内凹环沟,通过控制该规尺与下端滚轴的间隙,得提供不同厚度胶膜通过时,均可将胶膜表面活化剂滚匀分散,使胶膜表面的油墨与活化剂充份反应,进而提升立体转印的品质。 | ||
搜索关键词: | 水面 立体 机构 | ||
【主权项】:
1.一种水面立体转印机构,包括:一机台,机台前端设有一胶膜传送机构,该胶膜传送机构由数个滚轴配设于不同位置所组成;一活化剂供给机构,设于机台上端;一活化剂匀布机构,设于活化剂供给机构后方;一风扇机构,设于活化剂匀布机构后方;一用以夹持转印物件浸入水里转印的转印机构;一水槽,设于机台后端,提供胶膜均匀溶入;其特征在于:所述的活化剂供给机构,设有一固定至机台的平台,平台上端在胶膜流动的径方向上,间隔设置有数个定时定量供给泵。
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