[外观设计]半导体制造装置用挡气板无效
| 申请号： | 03342349.0 | 申请日： | 2003-05-20 |
| 公开（公告）号： | CN3342004D | 公开（公告）日： | 2003-12-24 |
| 发明（设计）人： | 土场重树 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | 15-99 | 分类号： | 15-99 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人： | 龙淳 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 1.因左视图与右视图对称，故省略左视图。2.如使用状态剖视参考图所示，本外观设计产品是用于堵塞搬出搬入处理基板的搬出搬入口的物品，根据处理情况，通过压气缸等来上下驱动。本外观设计产品，以与处理容器内壁相同的曲率弯曲地形成，以便在堵塞搬出搬入口的状态下，不在真空容器内形成凹凸，从而在真空容器内形成均匀的等离子体。在附着有反应生成物时，可很容易地取下并洗干净。该物品的材质是铝-氧化铝等。 | ||
| 搜索关键词： | 半导体 制造 装置 用挡气板 | ||
【主权项】：
暂无信息
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