[发明专利]电解再生处理装置有效
| 申请号： | 03800110.1 | 申请日： | 2003-02-05 |
| 公开（公告）号： | CN1498291A | 公开（公告）日： | 2004-05-19 |
| 发明（设计）人： | 竹前孝博;宫崎郁雄;宫泽贤二 | 申请（专利权）人： | 新光电气工业株式会社 |
| 主分类号： | C25F7/02 | 分类号： | C25F7/02;C23F1/46 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 于静;李峥 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明公开了一种能够尽量减少当包含金属离子的蚀刻流体在其中具有电极的再循环槽中再循环时所产生的不溶性淤渣并消除对特意安装淤渣去除装置如淤渣去除槽的需求的电解再循环设备，特征在于，再生槽(12)的内部划分成多个隔室(12a－12h)使得由再循环槽的供料侧供给的蚀刻流体连续地流向出口方向，同时交替地将流动方向改变为上侧和下侧，电极(16，16，16)设置在选自所述多个隔室的其中蚀刻流体向上流动的那些隔室(12b，12d，12f)中，和用于搅拌蚀刻流体的搅拌装置安装在隔室(12a－12h)中蚀刻流体流动停滞的位置。 | ||
| 搜索关键词： | 电解 再生 处理 装置 | ||
【主权项】：
1.一种用于再生包含金属离子的蚀刻处理溶液的电解再生处理装置，包括：其内部被划分成多个隔室使得由供料侧供给的所述蚀刻处理溶液在流动方向交替地向上和向下改变的情况下连续地通过所述隔室流向出口侧的再生槽；设置在选自所述多个隔室的其中蚀刻处理溶液向上流动的那些隔室中的电极；以及用于搅拌蚀刻溶液的设置在所述隔室中蚀刻溶液流动的停滞部分处的搅拌装置。
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