[发明专利]具有织构化的涂层的处理室部件的评估有效
| 申请号： | 03800782.7 | 申请日： | 2003-03-26 |
| 公开（公告）号： | CN1672236A | 公开（公告）日： | 2005-09-21 |
| 发明（设计）人： | S－N·林;M·D·孟西;N·孙 | 申请（专利权）人： | 应用材料有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;C23C14/56;C23C16/44;G01N23/203;C23C4/00 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人： | 赵蓉民 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种用于基片处理室的部件，其包括具有表面颗粒的织构化的涂层的结构。通过向该部件的织构化的涂层上照射一束电子以便引起一部分电子背散射来评价该部件。检测背散射的电子和产生信号图像。在信号图像表明表面颗粒尺寸为约0.1－约5微米时选择该部件。在一种形式中，当颗粒基本上为花朵形状时选择该部件。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 织构化 涂层 处理 部件 评估 | ||
【主权项】：
1.一种选择用于基片处理室的部件的方法，该方法包括：(a)提供具有织构化的涂层的结构，该织构化的涂层具有表面颗粒；和(b)通过以下步骤评估该结构上的织构化的涂层：(i)向该织构化的涂层的表面颗粒上照射一束电子，由此使至少一部分电子背散射，(ii)检测背散射电子和产生信号图像，(iii)评估该信号图像以便确定织构化的涂层的表面颗粒的尺寸，和(iv)当织构化的涂层的表面颗粒的尺寸为约0.1-约5微米时选择该部件。
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