[发明专利]核心不含羟基基团的光纤预制体的制作方法

摘要

核心基本上不含羟基基团的光纤预制体的制作方法，包括：将粉尘(SiO₂和GeO₂)沉积到石英管的内表面从而形成折射率相对较低的包覆层；在包覆层上形成具有相对较高折射率的核心层，其中核心层的形成步骤包括：(a)基础核心层形成步骤，该步骤通过对石英管进行加热使得石英管中的温度达到1000℃～1400℃并在石英管中引入反应气体(SiCl₄和GeCl₄)，然后在包覆层上堆积粉尘而产生粉尘；通过加热石英管使石英管内的温度达到600℃～1200℃，同时将脱水气体(He，Cl₂；O₂)引入石英管中以从粉尘和管中除去羟基基团(OH)和水蒸气；通过加热石英管使石英管内温度超过1700℃并引入脱水气体(He，Cl₂；O₂)以烧结粉尘并使之玻璃化；以及(b)补充核心层的形成步骤，通过至少重复一次(a)中的堆积/脱水/烧结步骤从而形成至少一层补充的核心层。

主权项

1.利用MCVD法(改进的化学气相沉积法)制作核心层基本不含羟基基团(OH)的光纤预制体的方法，该方法包括下述步骤：(1)通过在石英管内表面沉积含有SiO2和GeO2的粉尘，形成具有相对较低折射率的包覆层；以及(2)在包覆层上形成具有相对较高折射率的核心层，其中核心层的形成步骤包括：(a)基础核心层形成步骤，该步骤包括堆积步骤：对石英管进行加热使得石英管中的温度达到1000℃～1400℃，同时引入用于形成粉尘的反应气体和载体气体，然后在包覆层上堆积粉尘，从而产生粉尘；脱水步骤：加热石英管使石英管的温度达到600℃～1200℃，并将脱水气体引入石英管中，从而除去粉尘和管中所含的羟基(OH)和水蒸气；以及烧结步骤：加热粉尘沉积的石英管使石英管内的温度超过1700℃，从而烧结粉尘并使之玻璃化；以及(b)补充核心层形成步骤：通过至少重复一次(a)中的堆积步骤、脱水步骤以及烧结步骤从而形成至少一层补充的核心层。