[发明专利]等离子处理装置有效
| 申请号： | 03801713.X | 申请日： | 2003-08-28 |
| 公开（公告）号： | CN1754409A | 公开（公告）日： | 2006-03-29 |
| 发明（设计）人： | 真弓聪;日野守;屋代进;清水治和 | 申请（专利权）人： | 积水化学工业株式会社 |
| 主分类号： | H05H1/24 | 分类号： | H05H1/24;H01L21/3065;C08J7/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 柳春琦 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 等离子处理装置M1装有用于支撑一对长条电极(30)的处理部分(20)。处理部分(20)设有多个拉动螺栓(52)(用于阻止靠近变形的装置)，在电极(30)纵向上相互隔开地排列螺栓(52)。拉动螺栓(52)的头部通过螺栓支架(53)钩住刚性板(33)，而螺栓(52)的腿部拧入电极(30)。由此，可以防止这种电极由于库仑力而变形。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子 处理 装置 | ||
【主权项】：
1、一种等离子处理装置，用于对电场中的处理气进行等离子化，然后喷出处理气，所述等离子处理装置的特征在于，包括：一对长条电极，它们各自具有第一和第二长条侧边，并平行布置，所述电场被施加在所述电极对之间，所述第一长条侧边之间的开口用作处理气接收孔，所述第二长条侧边之间的开口用作处理气吹气孔；防变形设备，其防止所述电极对在平行布置地电极的方向上变形。
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