[发明专利]透孔箔的生产方法及其在生产微米和亚微米过滤器中的应用有效
| 申请号： | 03801984.1 | 申请日： | 2003-01-07 |
| 公开（公告）号： | CN1612777A | 公开（公告）日： | 2005-05-04 |
| 发明（设计）人： | T·拉加德;J·佩尔蒂埃;A·拉科斯特;Y·A－M·阿纳尔 | 申请（专利权）人： | 科学研究国家中心 |
| 主分类号： | B01D67/00 | 分类号： | B01D67/00;G03F7/00;G03F7/12;B01D69/02;B01D39/16 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 马江立;吴鹏 |
| 地址： | 法国*** | 国省代码： | 法国;FR |
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| 摘要： | 本发明涉及一种生产透孔箔的方法。本发明方法包括下述步骤：准备厚度为5微米至几十微米的箔，该箔可以通过平版印刷操作来刻蚀；在该箔的一表面上制作掩蔽层，所述掩蔽层的刻蚀选择性S至少等于5；在所述掩蔽层上沉积一光敏树脂层；采用平版印刷在所述树脂层中制作透孔；从掩蔽层中的孔各向异性刻蚀穿透所述箔，以在箔中制作形状系数大于5的孔。本发明适用于生产微米与亚微米过滤器。 | ||
| 搜索关键词： | 透孔箔 生产 方法 及其 微米 过滤器 中的 应用 | ||
【主权项】：
1.生产透孔箔的方法，该方法包括下列操作步骤：A)准备厚度5微米至几十微米的箔，该箔适合于采用平版印刷操作进行刻蚀；B)在所述箔的一表面上制作掩蔽层，所述掩蔽层的刻蚀选择性S至少等于5，该选择性S定义为箔材料的刻蚀速度VF与掩蔽层的刻蚀速度VM之比；C)在掩蔽层上沉积一光敏树脂层；D)按照待制孔的构型，采用平版印刷在树脂层中制造透孔；E)通过树脂层中的孔，刻蚀穿透掩蔽层；F)从掩蔽层中的孔各向异性刻蚀穿透所述箔，以在箔中制出具有形状因子大于5的孔，该形状因子定义为孔深度与其直径之比。
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