[发明专利]无机/有机薄膜的沉积方法无效
| 申请号： | 03802311.3 | 申请日： | 2003-01-17 |
| 公开（公告）号： | CN1617949A | 公开（公告）日： | 2005-05-18 |
| 发明（设计）人： | 约安内斯·莱昂纳德·林登;格雷戈里·罗伯特·奥尔科特;爱德华·阿洛伊斯·热拉尔·阿梅尔;毛里蒂乌斯·科内利斯·玛丽亚·范德桑登 | 申请（专利权）人： | 荷兰应用科学研究会(TNO);艾恩德霍芬技术大学 |
| 主分类号： | C23C16/517 | 分类号： | C23C16/517;C23C16/452;C23C16/50 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 于辉 |
| 地址： | 荷兰代*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明描述了一种向基底涂覆混合涂层的方法。本发明的涂层是由无机成分和有机成分形成的。因此，该涂层具有混合性能，尤其是硬度的优点结合了柔韧性。本发明还描述了制备混合涂层的装置。 | ||
| 搜索关键词： | 无机 有机 薄膜 沉积 方法 | ||
【主权项】：
1.一种向基底涂覆混合涂层的方法，该涂层包含无机和有机成分，所述无机成分包含纳米颗粒，这些成分的前体在一个或多个用于等离子体活化的化学气相沉积的等离子体源中被活化，其中在将活化的前体从用于形成涂层的化学气相沉积到基底上之前，将它们相互结合。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
