[发明专利]可控膜厚分布的线型或平面型蒸发器有效
| 申请号： | 03802577.9 | 申请日： | 2003-01-22 |
| 公开（公告）号： | CN1620521A | 公开（公告）日： | 2005-05-25 |
| 发明（设计）人： | 郑光镐 | 申请（专利权）人： | 延世大学校 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 陶凤波;侯宇 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明涉及一种可控膜厚分布的线型或平面型蒸发器，尤其是一种利用具有一定图案的狭缝在位于蒸发器上方的基板上蒸发和沉积源材料的线型或平面型蒸发器，包括：由一个纵向延伸到预定距离的细长筒体形成的以容纳待沉积材料的坩埚；和沿坩埚纵向形成在坩埚顶表面上且其面积小于坩埚截面面积的一个狭缝或独立设置的一个狭缝，由此通过沿垂直于坩埚纵向的方向移动基板进行薄膜沉积。从而，沉积的薄膜具有提高了的膜厚分布均匀性和期望的图案。 | ||
| 搜索关键词： | 可控 分布 线型 平面 蒸发器 | ||
【主权项】：
1、一种能够控制膜厚分布的线型蒸发器，包括：由一纵向延伸到预定距离的细长筒体形成的以在其中容纳待沉积材料的一坩埚；和沿所述坩埚的纵向形成在所述坩埚的顶表面上且其面积小于所述坩埚的截面面积的一狭缝或独立设置的一狭缝，由此通过沿垂直于所述坩埚的所述纵向的方向移动基板来进行薄膜沉积。
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