[发明专利]光掩模及其制备方法无效
| 申请号： | 03802666.X | 申请日： | 2003-01-24 |
| 公开（公告）号： | CN1653392A | 公开（公告）日： | 2005-08-10 |
| 发明（设计）人： | L·迪厄;F·D·卡尔克 | 申请（专利权）人： | 杜邦光掩公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;G03C5/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 邹雪梅;马崇德 |
| 地址： | 美国得*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光掩模及其制备方法。在至少部分基底上沉积第一材料以形成第一材料层。在第一材料的沉积完成之前，在高于大约300摄氏度的温度对该基底施加热处理。 | ||
| 搜索关键词： | 光掩模 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种制备光掩模坯件的方法，其包括：在至少部分基底上沉积第一材料形成第一材料层；和在第一材料的沉积完成之前，对基底在高于大约300摄氏度的温度施加热处理。
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