[发明专利]利用包括脱水和脱氯步骤的改进化学汽相沉积法制造光纤预型体的方法以及由该方法制造的光纤

摘要

本发明公开了一种利用MCVD法制造光纤预型体，包括脱水和脱氯步骤的方法，该方法根据折射率分布采用不同组分的粉尘生成气体重复以下工序，所述工序包括：通过将粉尘形成气和氧气一同导入沉积管内，于低于粉尘烧结的温度下在沉积管内表面形成带孔隙的粉尘层；将脱水气体导入沉积管内，以脱去粉尘层内的羟基，同时保留粉尘层内的孔隙；将脱氯气体导入沉积管内而除去粉尘层内的氯杂质，同时保留粉尘层内的孔隙；在高于粉尘烧结温度下加热沉积管而烧结粉尘层。

主权项

1.一种利用改进的化学汽相沉积法MCVD制造光纤预型体的方法，采用火焰供给装置沿沉积管的轴向作往复运动而形成包层和型芯，该方法根据折射率分布采用不同组分的粉尘生成气体重复以下工序，所述工序包括：(a)将卤化物族的粉尘生成气体和氧气一同导入沉积管内而在低于粉尘烧结温度的温度下诱发生成粉尘的反应，从而在沉积管内表面形成具有孔隙的粉尘层；(b)将脱水气体导入沉积管内以脱去粉尘层内的羟基，同时保留粉尘层内的孔隙；(c)将脱氯气体导入沉积管内以除去粉尘层内的氯杂质，同时保留粉尘层内的孔隙；(d)在高于粉尘烧结温度的温度下加热沉积管而烧结粉尘层。