[发明专利]等离子体处理装置无效
| 申请号： | 03803212.0 | 申请日： | 2003-01-27 |
| 公开（公告）号： | CN1628495A | 公开（公告）日： | 2005-06-15 |
| 发明（设计）人： | 河西繁 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H05H1/46 | 分类号： | H05H1/46;H01L21/3065;H01L21/31;H01P3/12 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人： | 龙淳 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供通过使用高电介质材料可提高波导管耐热性的等离子体处理装置，该等离子体处理装置的特征为配备以下部件，即可真空抽气的处理容器(44)，和在所述处理容器内设置的，载置被处理体(W)的载置台(46)，和在所述处理容器顶板开口部设置的微波透过板(72)，和经所述微波透过板用于把微波供给所述处理容器内的平面天线部件(76)，和覆盖所述平面天线部件的上方地接地的护板盖板(80)，和用于把来自微波发生源的微波供给所述平面天线部件的波导管(90)，所述波导管由使用高电介质材料的高电介质波导管(94)形成，据此可以提高波导管的耐热性。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 装置 | ||
【主权项】：
1、一种等离子体处理装置，其特征为，配备以下部件：可真空抽气的处理容器；在所述处理容器内设置的、载置被处理体的载置台；在所述处理容器的顶板开口部上设置的微波透过板；经所述微波透过板，用于将微波供给所述处理容器内的平面天线部件；覆盖着所述平面天线部件的上方并接地的防护盖体；和用于将来自微波发生源的微波供给所述平面天线部件的波导管，所述波导管由使用了高电介质材料的高电介质波导管构成。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东京毅力科创株式会社，未经东京毅力科创株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/03803212.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：移动通信终端的存储器适配器装置及方法
- 下一篇：压缩工作叶片
