[发明专利]无电容单一晶体管动态随机存取存储器单元及制造方法无效
申请号: | 03803414.X | 申请日: | 2003-01-23 |
公开(公告)号: | CN1628386A | 公开(公告)日: | 2005-06-15 |
发明(设计)人: | J·维尔勒 | 申请(专利权)人: | 因芬尼昂技术股份公司;因芬尼昂技术弗拉斯有限责任两合公司 |
主分类号: | H01L27/108 | 分类号: | H01L27/108;H01L21/8242 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 程天正;梁永 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | 在一介电质填充沟渠(4)的侧壁上,垂直安置沟道区(11)与源极-漏极区(9、10)。在其对立侧,半导体材料由栅极介电质(18)和置于该半导体材料切口的栅电极(16)限定。一存储器单元阵列包括多个垂直定向的条带型半导体区,其中在其顶部与底部布植源极-漏极区,而嵌入四周绝缘材料中的沟道区则在二者之间,用作一浮体。 | ||
搜索关键词: | 电容 单一 晶体管 动态 随机存取存储器 单元 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种无电容单一晶体管动态随机存取存储器单元,其中在半导体材料中,一沟道区系安置在源极与漏极的掺杂区之间,该区系嵌在介电材料中,其方式使得无外加电位的情形下,该沟道区至少部分泛空电荷载体,以及一栅电极安置在该沟道区上,且系由一栅极介电质与后者隔离,其中一由介电材料(4)所构成的区域系在一半导体主体(1)或衬底的一顶侧上形成,该沟道区(11)则安置在介电材材料(4)构成该区域的一侧壁上,该源极-漏极区(9、10)在该顶侧垂直方向的两侧紧邻该沟道区(11),该栅电极(16)系安置在该沟道区(11)远离介电材料(4)构成该区域的一侧上,且系由用作栅极介电质的一介电层(18),将其与该沟道隔离,以及该栅电极(16)与一字线连接,而该半导体主体(1)或衬底的一上部源极-漏极区(10)则与一位线连接。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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