[发明专利]用于形成嵌入式电阻器的刻蚀溶液无效
| 申请号： | 03803597.9 | 申请日： | 2003-02-03 |
| 公开（公告）号： | CN1630917A | 公开（公告）日： | 2005-06-22 |
| 发明（设计）人： | 丹·利利;王江涛 | 申请（专利权）人： | 尼科原料美国公司 |
| 主分类号： | H01B13/00 | 分类号： | H01B13/00;B44C1/22;C03C15/00;C03C25/68;C23F1/00;C25F3/00 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 夏青 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种含有硫脲的电阻刻蚀溶液，它尤其适合于刻蚀由镍－铬合金组成的电阻材料。在(a)铜表面面积与(b)镍/铬表面面积的比值较大、并且期望精细特征刻蚀的情况下，电阻刻蚀溶液允许对镍铬合金进行快速而有效地刻蚀。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 形成 嵌入式 电阻器 刻蚀 溶液 | ||
【主权项】：
1、一种用于刻蚀包括镍-铬合金的电阻材料的刻蚀溶液，包括：盐酸；以及硫脲。
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