[发明专利]偏振分析方法

摘要

在氧化膜(301)的下层，形成有：由金属布线(302)和层间绝缘膜(303)构成的B层，和由在与金属布线(302)正交方向形成的金属布线(304)和层间绝缘膜(305)所构成的D层的多层布线。入射光中的s偏振光成分由B层界面反射，p偏振光成分由D层界面反射，计算各个振幅反射率Rs、Rp，计算作为s偏振光成分和p偏振光成分的振幅比ψ和相位差Δ的函数的tanψ和cosΔ，得到基准数据，基于该基准数据来求出氧化膜(301)的膜厚(tA)。由此，能够非破坏且高生产率地进行在多层布线上形成的膜的膜厚测量和截面形状测量。

主权项

1.一种偏振分析方法，在对表面上具有测量对象的膜的被测量物以规定入射角照射规定波长的椭圆偏振状态的入射光时，通过理论计算求出从所述被测量物反射的反射光的p偏振光成分和s偏振光成分的基于相位差(Δ)的值和基于振幅比(Ψ)的值，得到基准数据，同时，通过测量求出实际的对所述被测量物照射所述入射光时反射的反射光的p偏振光成分和s偏振光成分的基于相位差(Δ)的值和基于振幅比(Ψ)的值，通过与所述基准数据比较，进行所述膜的分析，其特征在于，在得到所述基准数据时，使得所述p偏振光成分的反射面和所述s偏振光成分的反射面不同来进行所述理论计算。