[发明专利]酞菁化合物,制备该酞菁化合物的方法以及含有该酞菁化合物的光记录介质无效
申请号: | 03803883.8 | 申请日: | 2003-02-14 |
公开(公告)号: | CN1633475A | 公开(公告)日: | 2005-06-29 |
发明(设计)人: | 清野和浩;中川真一;三泽传美;木下智之;高坂明宏;寺尾博;熊谷洋二郎 | 申请(专利权)人: | 三井化学株式会社;山本化成株式会社 |
主分类号: | C09B47/16 | 分类号: | C09B47/16;C09B67/22;G11B7/24;B41M5/26 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 | 代理人: | 钟晶 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 一种由下面的通式(I)表示的酞菁化合物及其混合物,和一种在其记录层含有该化合物/混合物的的光记录介质。其中,通式(I)中,M是两个氢原子,二价金属原子,单取代基的三价金属原子,二取代的四价金属原子,或氧化金属,和L1,L2,L3,和L4各自独立地是式(a)、(b)、或(c):在式(a),式(b)和式(c)中,X表示取代或未取代的烷基,烷氧基,烷硫基,芳氧基,和芳硫基;每个R是独立的氢原子,取代或未取代的碳原子总数为1-6的烷基,取代或未取代的碳原子总数为6-10的芳基;A表示羰基,硫代羰基,砜基,锍化物基,或碳亚氨基;Y表示金属化合物残基;Z独立的表示氢原子,硝基,或卤素原子;以及L1-L4中的至少一个是式(a)或(b)。 | ||
搜索关键词: | 化合物 制备 方法 以及 含有 记录 介质 | ||
【主权项】:
1.一种由下面的通式(I)表示的酞菁化合物:
其中,式(I)中,M是两个氢原子,二价金属原子,单取代的三价金属原子,二取代的四价金属原子,或氧化金属;L1,L2,L3,和L4各自独立地是式(a)、式(b)、或式(c):
在式(a),式(b)和式(c)中,X表示取代或未取代的烷基,烷氧基,烷硫基,芳氧基,和芳硫基;每个R独立地是氢原子,取代或未取代的碳原子总数为1-6的烷基,取代或未取代的碳原子总数为6-10的芳基;A表示羰基,硫代羰基,砜基,锍化物基,或碳亚氨基,Y表示金属化合物残基,Z独立地表示氢原子,硝基,或卤素原子,以及L1-L4中的至少一个是式(a)或(b)。
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