[发明专利]利用旋转探测器阵列探测电离辐射的装置和方法无效
申请号: | 03804037.9 | 申请日: | 2003-02-14 |
公开(公告)号: | CN1633608A | 公开(公告)日: | 2005-06-29 |
发明(设计)人: | T·弗兰克;P·斯韦登哈 | 申请(专利权)人: | 爱克斯康特公司 |
主分类号: | G01T1/16 | 分类号: | G01T1/16 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 杨松龄 |
地址: | 瑞典丹*** | 国省代码: | 瑞典;SE |
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摘要: | 一种对目标进行二维成像的基于扫描的辐射探测器装置,包括若干个一维探测器单元(41、41a),各一维探测器单元包括入射狭缝(43、43a),电离辐射线在透过所述目标后通过所述入射狭缝进入一维探测器单元,进行电离辐射一维成像,其中,所述若干个一维探测器单元布置成阵列,其相应的入射狭缝(43、43a)互相平行,对着所述电离辐射线的辐射源。这种探测器装置还包括用来使探测器单元阵列在垂直于电离辐射线方向的平面内转动的转动装置(44;64;74;86),而所述探测器单元设置成可重复进行探测,从而形成所述目标的一系列二维图像。 | ||
搜索关键词: | 利用 旋转 探测器 阵列 探测 电离辐射 装置 方法 | ||
【主权项】:
1.一种对目标进行二维成像的基于扫描的辐射探测器装置,包括若干个一维探测器单元(41、41a、41′),各所述一维探测器单元包括入射狭缝(43、43a、43′),电离辐射线在透过所述目标后通过所述入射狭缝进入所述一维探测器单元,进行一维成像,其中,所述若干个一维探测器单元布置成阵列,其相应的入射狭缝(43、43a、43′)对着所述电离辐射线的辐射源;和所述基于扫描的探测器装置包括使所述一维探测器单元阵列在基本上垂直于所述电离辐射线方向的平面内相对所述目标转动的转动装置(44;64;74;86),而所述若干个一维探测器单元设置成可重复进行探测,从而形成所述目标的一系列二维图像,其中,所述若干个一维探测器单元布置成圆圈,其相应的入射狭缝(43、43a、43′)基本上沿径向相对所述转动的轴线延伸;和所述若干个基本上沿径向的一维探测器单元中相邻两个之间的角度为90°或更小。
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