[发明专利]部分镀敷方法、部分镀敷树脂基材以及多层电路基板的制造方法无效
申请号: | 03804801.9 | 申请日: | 2003-02-27 |
公开(公告)号: | CN1639384A | 公开(公告)日: | 2005-07-13 |
发明(设计)人: | 胁坂康寻 | 申请(专利权)人: | 日本瑞翁株式会社 |
主分类号: | C23C18/20 | 分类号: | C23C18/20 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 张平元;赵仁临 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明涉及在树脂基材表面上形成图案状镀敷层的部分镀敷方法。本发明的部分镀敷方法包括下列各工序:对树脂基材表面进行氧化处理的工序;在氧化处理面上,按图案状附着具有能与金属原子或金属离子配位的结构的化合物,形成起始图案的工序;采用化学镀敷法,在起始图案上形成镀敷层的工序;根据需要,使镀敷层成长至所希望的厚度的工序。另外,本发明涉及利用这种方法得到的部分镀敷树脂基材、利用部分镀敷法的多层电路基板的制造方法。 | ||
搜索关键词: | 部分 方法 树脂 基材 以及 多层 路基 制造 | ||
【主权项】:
1.一种部分镀敷方法,该方法是在树脂基材表面形成图案状的镀敷层的部分镀敷方法,其特征在于该方法包括以下工序:i)氧化处理树脂基材表面的工序1;ii)在树脂基材表面的氧化处理面上,按图案状附着具有能与金属原子或金属离子配位的结构的化合物,形成起始图案的工序2;iii)采用化学镀敷法,在起始图案上形成镀敷层的工序3;以及iv)根据需要,再用化学镀敷法或电解镀敷法,使镀敷层成长至所希望的厚度的工序4。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
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C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
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