[发明专利]位置检测方法和表面形状估算方法、曝光装置及采用该曝光装置的器件制造方法无效
| 申请号： | 03805546.5 | 申请日： | 2003-03-07 |
| 公开（公告）号： | CN1695096A | 公开（公告）日： | 2005-11-09 |
| 发明（设计）人： | 前田浩平;三浦圣也 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 王永刚 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种位置检测系统，包括检测装置，相对于基本垂直于模版表面的方向检测位于模版表面上不同点处的位置，所述模版表面具有在其上形成的预定图案；其特征在于所述检测装置包括将来自光源的光引导至所述模版表面的光投影部分，和接收来自所述模版表面的反射光的光接收部分；其中来自所述光投影部分、入射到所述模版表面上的光的入射角度不小于45度。 | ||
| 搜索关键词： | 位置 检测 方法 表面 形状 估算 曝光 装置 采用 器件 制造 | ||
【主权项】：
1.一种位置检测系统，包括：检测装置，相对于基本垂直于模版表面的方向检测位于模版表面上不同点处的位置，所述模版表面具有在其上形成的预定图案；其中，所述检测装置包括将来自光源的光引导至所述模版表面的光投影部分，和接收来自所述模版表面的反射光的光接收部分；并且其中，来自所述光投影部分、入射到所述模版表面上的光的入射角度不小于45度。
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