[发明专利]具有接合焊盘的半导体器件及其制造方法有效

专利信息
申请号: 03805770.0 申请日: 2003-03-12
公开(公告)号: CN1643684A 公开(公告)日: 2005-07-20
发明(设计)人: 罗伊斯·E.·永;彼德·R.·哈帕;涂安·特朗;杰弗利·W.·玫兹;乔治·R.·里尔;迪乌·V.·迪恩 申请(专利权)人: 飞思卡尔半导体公司
主分类号: H01L23/485 分类号: H01L23/485
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 付建军
地址: 美国得*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 一种接合焊盘(10)具有基本上不重叠的探测区(14)和引线接合区(12)。在一个实施例中,接合焊盘(10)连接于最末金属层焊盘(16),且在互连区(24)上方延伸。接合焊盘(10)由铝制成,最末金属层焊盘(16)由铜制成。探测区(14)与引线接合区(12)分离,避免了最末金属层焊盘(16)被探针测试损坏,从而实现更可靠的引线接合。在另一实施例中,探测区(14)在钝化层(18)上方延伸。在接合焊盘之间要求非常细的节距的应用中,形成为一条线的多个接合焊盘的探测区(14)和引线接合区(12)可以交错排布,以增加探测区(14)之间的距离。此外,在互连区(24)上方形成接合焊盘(10),减小了集成电路的尺寸。
搜索关键词: 具有 接合 半导体器件 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种集成电路,包含:具有有源电路和周边的衬底;在所述衬底上方的第一多个互连层;在所述第一多个互连层上方的多个最末层焊盘;具有对应于所述最末层焊盘的多个开口的钝化层;以及多个接合焊盘,通过所述开口与所述最末层焊盘连接,具有在所述开口上方的第一部分和在所述钝化层上方的第二部分,其中,第二部分的面积大于第一部分。
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