[发明专利]泵浦效率提高的阵列型光学设备无效
| 申请号： | 03805809.X | 申请日： | 2003-03-13 |
| 公开（公告）号： | CN1643412A | 公开（公告）日： | 2005-07-20 |
| 发明（设计）人： | 慎重勋;朴南奎 | 申请（专利权）人： | 光神有限会社 |
| 主分类号： | G02B6/10 | 分类号： | G02B6/10 |
| 代理公司： | 北京润平知识产权代理有限公司 | 代理人： | 周建秋;徐曾美 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明涉及一种能够提高光学泵浦效率的阵列型光学设备。本发明的主要特征在于该阵列型光学设备具有在泵浦光源的束斑中尽可能多的增益介质结构，或者具有用于照射增益介质结构的更多的泵浦光源，以提高光学泵浦效率。 | ||
| 搜索关键词： | 效率 提高 阵列 光学 设备 | ||
【主权项】：
1、一种泵浦效率提高的阵列型光学设备，包括：基体；具有在基体上形成的多个凹陷部分和隆起部分的包层；多个线性增益介质结构，每一个都在包层的凹陷部分和隆起部分的表面上形成，或者插入到包层的凹陷部分和隆起部分中，以便与其表面隔开指定的距离；以及置于该包层上的泵浦光源，用于通过从光源向下射出的光来激射增益介质结构。
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