[发明专利]电离辐射的以扫描为基础的探测中的曝光控制无效

专利信息
申请号: 03805917.7 申请日: 2003-03-12
公开(公告)号: CN1642479A 公开(公告)日: 2005-07-20
发明(设计)人: T·弗兰克;S·通贝里 申请(专利权)人: 爱克斯康特公司
主分类号: A61B6/00 分类号: A61B6/00;G01T1/16;H05G1/38
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 崔幼平;杨松龄
地址: 瑞典丹*** 国省代码: 瑞典;SE
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摘要: 一种用于记录目标的2D图像的设备,所述设备包括多个1D探测器单元(41),当穿过或散射所述目标时,每个1D探测器单元(41)都暴露于电离辐射,并且所述1D探测器单元(41)被布置得用于它们所暴露于其处的各个电离辐射的一维成像。所述探测器单元被分布在密集阵列中以使得来自于所述探测器单元中的电离辐射的1D图像被分布在2D图像的主要部分上。所述设备包括:当所述探测器单元重复检测以形成所述目标的2D图像时用于使得所述探测器单元相对于所述目标移动的装置(87-89、91);以及控制装置,所述控制装置用于(i)控制所述探测器单元以便于在移动的初始部分之前或期间在短时间内检测电离辐射、(ii)计算以短时间检测为基础的重复检测的最优曝光时间;以及(iii)控制重复检测以便于自动地获得最优曝光时间。
搜索关键词: 电离辐射 扫描 基础 探测 中的 曝光 控制
【主权项】:
1.一种用于记录目标的二维图像的以扫描为基础的辐射探测器设备,所述辐射探测器设备包括多个一维探测器单元(41),当穿过或散射所述目标时每个一维探测器单元(41)都暴露于电离辐射,并且所述一维探测器单元(41)被布置得用于它们所暴露于其处的各个电离辐射的一维成像,其特征在于,-所述多个一维探测器单元被分布在密集阵列中以使得来自于所述多个一维探测器单元中的电离辐射的一维图像被分布在待记录的二维图像的主要部分上,其中-所述以扫描为基础的辐射探测器设备还包括:-当所述多个一维探测器单元被被布置得用于重复检测从而形成所述目标的二维图像时用于使得所述一维探测器单元的阵列相对于所述目标移动的装置(87-89、91);以及-用于控制所述一维探测器单元的阵列的移动和重复检测的控制装置,所述控制装置适合于(i)控制所述一维探测器单元阵列以便于在移动的初始部分之前或期间在短时间内检测电离辐射、(ii)计算在所述移动的初始部分之前或期间以所述电离辐射的检测为基础的每次重复检测的最优曝光时间以及所述短时间;以及(iii)控制所述一维探测器单元阵列的重复检测以便于自动地获得每次重复检测的所述最优曝光时间从而获得最优图像质量。
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