[发明专利]通过等离子体聚合制备涂层无效
| 申请号： | 03807354.4 | 申请日： | 2003-03-24 |
| 公开（公告）号： | CN1642664A | 公开（公告）日： | 2005-07-20 |
| 发明（设计）人： | 罗布·肖特;贾森·惠特尔;亚历克斯G·沙尔德;戴维·巴顿 | 申请（专利权）人： | 普拉索技术有限公司 |
| 主分类号： | B05D7/24 | 分类号： | B05D7/24;G01N33/543 |
| 代理公司： | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 王达佐;刘玉华 |
| 地址： | 英国谢*** | 国省代码： | 英国;GB |
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| 摘要： | 本发明提供一种制备基体的至少一个表面的至少一部分的方法，该方法包括在该表面上沉积至少一种等离子单体，其中在沉积该单体的过程中，提供了沿待处理表面移动该单体以制备非均匀等离子体聚合物表面的装置。 | ||
| 搜索关键词： | 通过 等离子体 聚合 制备 涂层 | ||
【主权项】：
1.一种制备基体的至少一个表面的至少一部分的方法，所述方法包括在所述表面上沉积至少一种等离子体单体，其中在沉积所述单体的过程中，提供了沿待处理表面移动所述单体源以制备非均匀等离子体聚合物表面的装置。
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