[发明专利]溅射装置、利用溅射的薄膜形成方法、以及使用该装置的盘形记录媒体制造方法无效
| 申请号： | 03807718.3 | 申请日： | 2003-04-01 |
| 公开（公告）号： | CN1646723A | 公开（公告）日： | 2005-07-27 |
| 发明（设计）人： | 越川政人;石崎秀树;渡边英昭;松井敏 | 申请（专利权）人： | TDK株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;G11B7/26 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 吴鹏;马江立 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 在一种溅射装置中，一覆盖基片的中心部分的内掩模由一支承件支承，该支承件设置在一靶的后表面上的一垫板上，并且该内掩模通过一弹簧以一预定负荷紧靠该基片。通过这种结构，当进行薄膜的沉积时，该紧靠基片的内掩模可与该基片一起旋转，并且能可靠地形成该基片的中心部分的无膜形成区域，并改善膜形成区域中的薄膜厚度等。 | ||
| 搜索关键词： | 溅射 装置 利用 薄膜 形成 方法 以及 使用 记录 媒体 制造 | ||
【主权项】：
1.一种溅射装置，该装置用于在一真空室内在基本为盘形的基片的表面上进行薄膜形成操作，该装置具有：一包含要形成的薄膜的主要组成元素的靶；一用于通过所述靶的一表面保持所述靶的垫板；一用于保持所述基片并使所述基片的表面与所述靶正对的基片托架；以及分别覆盖所述基片的外周向部分和一中心部分的一外掩模和一内掩模；其中，所述内掩模与一滑动轴相连并由该滑动轴支承以便可以旋转和平移，该滑动轴穿过一形成在所述靶上的通孔并由一设置在所述垫板上的支承件支承，并且该内掩模利用设置在所述垫板上的偏压装置通过所述滑动轴以一预定负荷紧靠在所述基片的中心部分上。
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