[发明专利]附着在固体上并用于增强CMP配方的形成自由基的活化剂

摘要

本发明提供一种用于化学机械抛光的组合物，其包括至少一种具有部分被活化剂涂布的表面的磨料颗粒。该活化剂包括一种除4(b)族、5(b)族或6(b)族的金属以外的金属。组合物进一步包括至少一种氧化剂。由于在活化剂表面，涂布在磨料颗粒表面的活化剂与氧化剂之间相互反应生成自由基，组合物被认为是有效的。本发明进一步提供一种用该组合物抛光衬底表面的部件或层，例如金属薄膜的方法。本发明还提供一种由此方法制造的衬底。

主权项

1.一种用于化学机械抛光半导体或存储器件衬底的组合物，该组合物包括：一种流体，其包括至少一种产生自由基的化合物，其中所述至少一种化合物在与至少一种活化剂接触时产生自由基，而且其中该流体的pH值在大约1至大约11之间；和大量颗粒，它们具有表面和与该表面缔合的至少一种活化剂，其中所述至少一种活化剂包括IV(B)族、V(B)族、或VI(B)族金属以外的金属，而且其中所述金属具有多种氧化态，其中所述组合物在用于化学机械抛光工艺时能去除所需的金属，但却不会产生瑕疵或不均匀性，这样衬底不用进一步加工即可成为可使用的半导体或存储器件成品。