[发明专利]衬底注入方法以及实施该方法的离子注入器有效

专利信息
申请号: 03808121.0 申请日: 2003-03-21
公开(公告)号: CN1647236A 公开(公告)日: 2005-07-27
发明(设计)人: 阿德里安·默雷尔;伯纳德·哈里森;彼得·爱德华兹;彼得·金德斯利;逆濑卓郎;马文·法利;佐藤修;杰弗里·吕丁 申请(专利权)人: 应用材料公司
主分类号: H01J37/317 分类号: H01J37/317
代理公司: 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 代理人: 柳春雷
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 注入器提供对衬底的相对于注入射束的二维扫描,使得射束在衬底上画出扫描线的栅格。在离开衬底的转折点对射束电流进行测量,并且电流值被用来控制随后的快速扫描速度,以补偿射束电流的任何变化对慢速扫描方向上的剂量均匀性的影响。该扫描可以产生不相交的、均匀间隔的平行扫描线的栅格,并且线之间的间距被选择以确保适当的剂量均匀性。
搜索关键词: 衬底 注入 方法 以及 实施 离子
【主权项】:
1.一种对衬底注入的方法,包括:a)产生具有可测量通量的所希望原子核素的注入射束,b)在衬底和射束之间进行如下两者的相对移动:(i)在垂直于射束方向的第一方向上,以产生射束在衬底上的至少一次通过,(ii)在垂直于射束方向和所述第一方向的第二方向上,以在每次所述通过期间,产生射束在衬底上的多次扫描,由此,所述扫描在衬底上画出中点在所述第一方向上具有预定间隔的线的栅格,所述扫描延伸超出衬底的边缘到没有射束通量被衬底吸收的位置,c)在所述位置测量所述射束通量,以及d)响应于先前所测量的射束通量,调节在衬底上的下一次所述扫描的速度,以至少部分补偿在所述通过期间射束电流的改变对所述第一方向上的剂量均匀性的影响。
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