[发明专利]洗涤和穿着过程中为织物提供外观和完整性有益效果的纤维质基聚合物的纺织厂应用

摘要

用于纺织厂应用的纤维质基聚合物或低聚物物质。本发明的组合物在洗涤和穿着过程中赋予织物和纺织品外观和完整性有益效果。该应用可单独进行或结合到纺织厂工序中。这些物质可通过轧－烘法或尽染法应用于纱/织物/纺织品/衣服上。

主权项

1.纺织厂处理组合物，所述纺织厂处理组合物包含：a)纤维质基聚合物或低聚物，其具有以下通式：其中每个R选自R₂、R_C，和其中：-每个R₂独立地选自H和C₁-C₄烷基；-每个R_C为其中每个Z独立地选自M、R₂、R_C和R_D；-每个R_H独立地选自C₅-C₂₀烷基、C₅-C₇环烷基、C₇-C₂₀烷基芳基、C₇-C₂₀芳基烷基、取代的烷基、羟基烷基、C₁-C₂₀烷氧基-2-羟基烷基、C₇-C₂₀烷基芳氧基-2-羟基烷基、(R₄)₂N-烷基、(R₄)₂N-2-羟基烷基、(R₄)₃N-烷基、(R₄)₃N-2-羟基烷基、C₆-C₁₂芳氧基-2-羟基烷基、和-每个R₄独立地选自H、C₁-C₂₀烷基、C₅-C₇环烷基、C₇-C₂₀烷基芳基、C₇-C₂₀芳基烷基、氨基烷基、烷基氨基烷基、二烷基氨基烷基、哌啶子基烷基、吗啉代烷基、环烷基氨基烷基和羟基烷基；-每个R₅独立地选自H、C₁-C₂₀烷基、C₅-C₇环烷基、C₇-C₂₀烷基芳基、C₇-C₂₀芳基烷基、取代的烷基、羟基烷基、(R₄)₂N-烷基和(R₄)₃N-烷基；其中：M为适宜的阳离子，其选自Na、K、1/2Ca和1/2Mg；每个x为0至约5；每个y为约1至约5；并且前提条件是：-基团R_H的取代度在约0.0001和0.1之间，更优选地在约0.0005和0.05之间，且最优选地在约0.0008和0.01之间；-其中Z为H或M的基团R_C的取代度在约0.2和2.0之间，更优选地在约0.3和1.0之间，且最优选地在约0.4和0.7之间；-如果任何R_H带有正电荷，它通过适宜的阴离子来平衡；并且-同一个氮原子上的两个R₄可一起形成选自哌啶和吗啉的环结构。