[发明专利]光信息介质及其制造方法有效
| 申请号： | 03808342.6 | 申请日： | 2003-05-23 |
| 公开（公告）号： | CN1647177A | 公开（公告）日： | 2005-07-27 |
| 发明（设计）人： | 林田直树;田中和志;井原理惠 | 申请（专利权）人： | TDK株式会社 |
| 主分类号： | G11B7/24 | 分类号： | G11B7/24;G11B7/26 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 汪惠民 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 提供盘面的翘曲非常小，并且耐擦伤性和耐磨性非常优异的光信息介质及其制造方法。在支撑基体2上具有至少含有记录层5或反射层3的由单层或多层构成的膜体，所述支撑基体侧表面及所述膜体侧表面中的至少一个表面由含有(A)平均粒径100nm以下的无机微粒和(B)反应性聚硅氧烷和(C)活性能量射线固化性化合物的组合物的固化物构成的硬涂层9形成的光信息介质1。 | ||
| 搜索关键词： | 信息 介质 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光信息介质，其中：在支撑基体上具有至少含有记录层或反射层的由单层或多层构成的膜体，所述支撑基体侧表面及所述膜体侧表面中的至少一个表面是由含有(A)平均粒径100nm以下的无机微粒和(B)反应性聚硅氧烷和(C)活性能量射线固化性化合物的组合物的固化物构成的硬涂层形成。
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